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多靶双室磁控溅射

发布时间:2017/07/03
多靶双室磁控溅射

  公司的产品以高真空和超高真空应用设备为特色,主要包括各种磁控溅射镀膜系统、蒸发镀膜系统、PLD、超高真空排气台、真空热处理设备、真空钎焊炉、化学气相沉积、等离子体增强气相沉积系统、以及用户特殊定制的设备、各种磁控靶、各种真空阀门及标准件等。


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